Coordonnées
Institut des Matériaux Jean Rouxel, 2 rue de la Houssinière 44322 Nantes
- Bureau
- IMN, EO9
- Ahmed.Rhallabi@univ-nantes.fr
Discipline(s) enseignée(s)
Thèmes de recherche
Activités / CV
Professeur des Université depuis 2007.
Situation professionnelle antérieure- Maître de conférences à l'Ecole Polytechnique de l'Université de Nantes (ex IRESTE) de 1993 à 2007.
Formation- DEA Instrumentation et Mesures, Université Joseph Fourier de Grenoble (1988).
- Thèse de l'Université de Nantes,
Spécialité : Microélectronique, soutenance le 28 Septembre 1992.
Titre : Modélisation cinétique d'un plasma de méthane pour le dépôt de couches minces de carbone hydrogéné(DLC).
HDR : Novembre 2001.
Titre : Modélisation et simulation des phénomènes électriques, cinétiques et de surface des plasmas froids pour les applications micro-électronique.
Responsabilités administratives
Responsable du Master CEO (Conception mise en œuvre et qualité des Composants Electroniques et Optoélectroniques)
Porteur du projet du Master EGE (Electronique et Gestion de l'Energie), pour la prochaine Habilitation 2012-2016
Résumé de mes activités de rechercheThème de recherche
Etude des procédés plasmas pour les applications microélectroniques et nanotechnologiques.
Laboratoire d'attachementInstitut des Matériaux Jean Rouxel, UMR 6502, CNRS - Université de Nantes, 2 rue de La Houssinière 44322 Nantes, France.
Sujets de recherche abordés- Simulation d'un plasma de méthane pour le dépôt de carbone amorphe hydrogéné (Sujet de thèse 1989-1992).
- Etude d'un plasma haute densité excité en mode Hélicon destiné au dépôt de couches minces diélectriques pour les interconnections métalliques.
- Etude de la morphologie des défauts (nodules) induits par des particules microscopiques lors d'un dépôt de couches épaisses (collaboration avec l'Ecole Polytechnique et la société Balzers).
- Gravure sèche pour les dispositifs micro-opto-électroniques: (Contrat CNET - Bagneux) 1996-1999.
- Développement d'un modèle à l'échelle nonométrique de dépôt d'oxyde de cilisium par plasma organosilicié (1998-2000).
- Gravure de tranchées à fort rapport d'aspect dans le silicium pour les applications MEMS (2000-2005).
- Etude de la gravure CAIBE destinées aux matériaux III-V (Programme MNRT GRAFIC) (2001-2006).
- Gravure de l'InP par plasma de Cl2: Application aux cristaux photoniques (depuis 2003).
- Intégration de composants passifs réalisés à partir de dépôts de couches minces dans une filière silicium CMOS (janvier 2007)
- Gravure en plasma dense fluorocarboné de matériaux diélectriques à base de silice : Application au développement de systèmes microfluidiques (octobre 2006)
- Modélisation de la gravure de l'InP par Plasma chloré (2009-2012) pour les interconnections optiques dans une filière CMOS.
- Modélisation de la gravure profonde de silicium par procédé Bosch (Contrat ST Microelectronics : 2011-2014)
- 10 thèses encadrées
- 11 DEA et Master et 20 stages ingénieurs
- 9 contrats scientifiques
- 35 publications dans des revues
- 1 chapitre d'ouvrage
- 1 publication sans comité de lecture
- Plus de 90 conférences internationales et nationales
- Australie : au Plasma Research Laboratory' de Australian National University Canberra (2 mois juillet - Août 1992).
- Grèce : à Institue of Microelectronics Demokritos' Athènes (3 semaines Avril 1997).
- Portugal : Centro de Fisica Dos Plasmas Instituto Superior Tecnico de Lisbonne (10 jours, juillet 2005).
- Portugal : Centro de Fisica Dos Plasmas Instituto Superior Tecnico de Lisbonne (7 jours, juin 2006).
Résumé de mes activités d'enseignement
Mes activités d'enseignement portent principalement sur l'enseignement de la microélectronique et de la physique des composants en Master1 EEA, en Master1 Physique, en M2 CEO (Conception mise en œuvre et qualité des Composants Electroniques et Optoélectroniques) et en Master2 C'Nano (Nanoscience, Nanomatériaux et nanotechnologie).
Enseignement de la CAO (Language VHDL) et de l'enseignement du module Transmission et Traitement de l'Information (TTI) en Master1 EEA.
Département d'Electronique et de Technologies Numériques (ETN) de l'Ecole Polytechnique de Nantes: Enseignements d'Electromagnétisme, de la physique des composants et de la microélectronique.
Formation continue(au CELAR à Rennes : Octobre 2005) Circuits et sous ensembles hyperfréquences
Professeur invité :
- Université de Settat (2010) (Maroc)
- Université de Fez (2008) (Maroc)
- Université de Tanger (2010) (Maroc)
- Université de Fez (2011) (Maroc)