Agnès GRANIER

Agnès GRANIER

née le 02/07/1961
adresse : IMN,  2 rue de la Houssinière, BP 32229, 44322 Nantes Cedex 3
tel : 02 40 37 39 65, fax : 02 40 37 39 59, e-mail : Agnes.Granier@cnrs-imn.fr

Fonctions Actuelles

- Directeur de Recherche CNRS section 10 (DR1) à l'Institut des Matériaux Jean Rouxel - Nantes (IMN)
- Directrice adjointe de l'IMN
- Membre du Comité National de la Recherche Scientifique, section 10 (2012-2016)
- Membre du Conseil de l'Ecole Doctorale 3MPL
- Membre du Conseil d'Administration de la SFV

Formation

1994 : Soutenance de l'Habilitation à Diriger des Recherches de l'Université Paris XI, Spécialité Sciences Physiques
1983-86 : Thèse de Docteur Ingénieur (Contrat CIFRE avec Jobin-Yvon) soutenue le 20 Mai 1986 :"Etude des décharges créées par onde de surface à moyenne et haute pression - Application à l'analyse chimique"
1982-83 : DEA de Chimie Physique (Université Pierre et Marie Curie Paris VI)
1980-83 : Diplôme d'Ingénieur de l'Ecole Centrale Paris

Distinction 

1994 : Médaille de bronze du CNRS

Fonctions précédentes :

2005-2012 : Responsable de l'équipe Plasmas Couches Minces de l'IMN
2009-2012 : Membre du Comité d'évaluation de l'ANR non thématique SIMI9
2004-2006 : Animatrice du Réseau Plasmas Froids de la MRCT (CNRS)
2001-2003 : Chargée de mission au Département SPI du CNRS
2000-2003 : Membre du bureau du CRT Plasma-Laser
1998-2004 : Membre du Bureau de la division plasma de la SFP
1998-2005 : Responsable de l'équipe PECVD du Laboratoire Plasmas Couches Minces de l'IMN
1994-1997 : Directrice du GDR 1136 "Procédés de dépôt de couches minces à partir de plasmas d'organosiliciés"
1986-1992 : Chargée de recherche (CR2 de 1986 à 1990, puis CR1) au Laboratoire de Physique des Gaz et des Plasmas (Orsay)

Thèmes de recherche :

- Etudes des décharges microondes créées par onde de surface et des sources plasma basse pression - haute densité (ICP, DECR, hélicon) : diagnostics électriques, optiques et physico-chimiques des plasmas

- Interactions plasma - matériaux : étude globale des procédés de dépôt de couches minces diélectriques (SiO2, SiOCH, TiO2...) et synthèse de nanoobjets et nanocomposites à base de carbone par PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)

Publications :

- 85 publications dans des revues internationales à comité de lecture
- plus de 100 communications à des congrès nationaux et internationaux
- 15 conférences invitées dans des congrès nationaux et internationaux

Animation de la recherche :

organisation de Congrès Nationaux et Internationaux : Membre du Comité Scientifique de IVC 19 (2013), Chairman du Comité d'organisation du CIP 2009, Vice Chairman pour CIP 2007, responsable de l'organisation du Congrès Plasmas de la SFP à Piriac en 2001, membre du comité d'organisation des Journées du réseau Plasmas Froids à Bonascre de 2002 à 2006...

Quelques publications récentes :

D. Li, M. Carette, A. Granier, J.P. Landesman and A. Goullet, In-situ Spectroscopic Ellipsometry Study of TiO2 Films Deposited by Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition, Applied Surface Science 283, 234-239 (2013)

D. Li, M. Carette, A. Granier, J.P. Landesman, A. Goullet, Spectroscopic ellipsometry analysis of TiO2 films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition in oxygen/titanium tetraisopropoxide plasma, Thin Solid Films 522, 366-371 (2012)

A.A. El Mel, E. Gautron, B. Angleraud, A. Granier, P.Y. Tessier, Synthesis of nickel-filled carbon nanotubes at 350°C, Carbon 49, 4595-4607(2011)

A A El Mel, E Gautron, CHChoi, B Angleraud, A Granier and P Y Tessier, Titanium carbide/carbon composite nanofibers prepared by a plasma process, Nanotechnology 21 435603 (2010)

A. Bousquet, G. Cartry, A. Granier, Investigation of O atom kinetics in O2, CO2, H2O and O2/HMDSO low pressure radiofrequency pulsed plasmas by time-resolved optical emission spectroscopy, Plasma Sources Science and Technology 16, 597-605 (2007)

A. Gohier_T. M. Minea, M. A. Djouadi and A. Granier, Impact of the etching gas on vertically oriented single wall and few walled carbon nanotubes by plasma enhanced chemical vapor deposition, Journal of Applied Physics 101 pp 054317-(2007)

A. Granier, G. Borvon, A. Bousquet, A. Goullet, C. Leteinturier, A. van der Lee, Mechanisms involved in the conversion of ppHMDSO films into SiO2-like by oxygen plasma treatment, Plasma Processes and Polymers 3, 365-373 (2006)

Limits of the PECVD process for single wall carbon nanotubes growth
A. Gohier, T.M. Minea, A. M. Djouadi, A. Granier, M. Dubosc, Chemical Physics Letters 421, pp 242-245 (2006)